A ASML pretende trabalhar com grandes fabricantes de semicondutores para adaptar seus equipamentos de litografia High-NA EUV à produção de chips maiores, como os processadores utilizados em inteligência artificial e data centers.
A tecnologia High-NA consegue imprimir estruturas menores do que a geração atual de EUV, mas enfrenta uma limitação prática: o campo de exposição é menor, o que dificulta fabricar componentes de grandes dimensões em uma única máscara.
Chips de IA são cada vez maiores
Processadores avançados usados em data centers, como aceleradores de IA, ocupam áreas próximas dos limites permitidos pelos processos atuais.
Os equipamentos EUV convencionais da ASML conseguem lidar com chips de até cerca de 800 mm² dentro do campo de exposição padrão.
Com High-NA, a resolução melhora, mas o tamanho útil do campo cai. A solução estudada é ampliar o tamanho das máscaras e adaptar todo o ecossistema de fabricação.
ASML prevê ganho de produtividade
Segundo a empresa, a mudança poderá elevar a produtividade do sistema em cerca de 40% quando estiver madura.
A adoção, porém, será gradual.
A Intel já utiliza equipamentos High-NA em etapas de desenvolvimento e produção. TSMC, Samsung e SK Hynix têm cronogramas diferentes para incorporar a tecnologia em grande escala.
Linha piloto com máscaras maiores fica para a próxima década
A ASML planeja demonstrar uma linha piloto capaz de usar máscaras maiores por volta de 2031 e mira produção em alto volume alguns anos depois.
Isso mostra que o anúncio não representa uma solução disponível imediatamente para os chips atuais de Nvidia, Google ou outras empresas.
É um investimento na infraestrutura necessária para as próximas gerações de semicondutores.
Por que a litografia importa para IA
O avanço dos modelos de IA elevou a demanda por processadores com mais transistores, memória e interconexões.
Para continuar aumentando desempenho sem multiplicar indefinidamente consumo e área física, fabricantes precisam combinar novas arquiteturas, empacotamento avançado e processos de litografia mais precisos.
A ASML ocupa posição central nessa cadeia porque é a única fornecedora comercial dos sistemas EUV usados na fabricação dos chips mais avançados.
A adaptação do High-NA para componentes grandes tenta garantir que o ganho de resolução da nova geração não venha acompanhado de uma limitação excessiva no tamanho dos processadores que mais crescem com a corrida da IA.